Influence of thickness on structural properties of annealed $\mathrm{In_2S_3}$ thin films deposited by thermal evaporation

$\mathrm{In_2S_3}$ тонкие пленки различной толщины осаждены на стеклянные подложки методом термического испарения. Толщины $\mathrm{In_2S_3}$ пленок регулировались параметрами осаждения и были $1200$ нм, $470$ нм и $50$ нм. Все полученные тонкие пленки отжигались при $400^\circ$С в течение $60$ мин. Структурные свойства и морфология исследовались методами рентгеновской дифракции, спектроскопия комбинационного рассеяния и атомно-силовой микроскопии. Результаты рентгенографии показали, что для пленок $\mathrm{In_2S_3}$ толщиной $1200$ нм и $470$ нм характерны рефлексы тетрагональной структуры. Спектроскопия комбинационного рассеяния показала, что интенсивность пиков зависит от толщины пленок. Средняя шероховатость ($R_a$) и среднеквадратичная шероховатость ($R_{\text{RMS}}$) увеличивается с толщиной, что связано с увеличением размера зерен в $\mathrm{In_2S_3}$ пленках.