Особенности реактивного магнетронного нанесения пленок оксида тантала при различных способах подачи газа в камеру

Проведены исследования процессов реактивного магнетронного распыления Ta мишени в Ar/O$_2$ смеси газов. Установлены зависимости напряжения разряда, скорости нанесения и электрофизических характеристик пленок оксида тантала от способа газоподачи и концентрации кислорода в Ar/O$_2$ смеси газов. Установлено, что металлический, переходной и реактивный режим работы системы распыления определяются изменением скорости нанесения пленок. Независимо от способа подачи рабочих газов в камеру, начальное формирование диэлектрических пленок оксида тантала с низким оптическим поглощением наблюдается в переходном режиме работы системы.