RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1985, том 19, выпуск 4, страницы 601–607 (Mi phts1149)

Исследование влияния несоответствия параметров решеток эпитаксиальных слоев на люминесцентные свойства гетероструктур InGaAsP/InP, излучающих на длине волны ${\lambda=1.5}$ мкм

В. А. Страхов, Н. Г. Яременко, А. А. Телегин, В. А. Оганджанян, М. В. Карачевцева, Л. Ф. Михалева, В. И. Петров, В. А. Прохоров


Аннотация: Исследовано влияние несоответствия параметров решеток эпитаксиальных слоев на электро- и катодолюминесценцию двойных гетероструктур InGaAsP/InP, излучающих на длине волны ${\lambda= 1.5}$ мкм. Показано, что напряжения несоответствия даже в области чисто упругих деформаций решеток могут на порядок снижать эффективность электролюминесценции, причем наиболее эффективными являются структуры, изорешеточные при температуре эпитаксии. При комнатной температуре активный слой в таких гетероструктурах находится под действием небольших напряжений растяжения. Исследованы микрокатодолюминесцентные изображения эпитаксиальных слоев в монохроматическом свете и показано, что дефектная структура слоев зависит от величины и знака несоответствия параметров решеток. С помощью вольтъемкостных измерений показано, что рассогласование параметров решеток может существенно ухудшать электрические характеристики гетероперехода, вызывая появление «болтающихся связей» на гетерогранице.



© МИАН, 2024