Диффузия олова в аморфном гидрированном кремнии, легированном фосфором

С помощью радиоактивного изотопа исследовано диффузионное распределение олова в аморфном гидрированном кремнии ($a$-Si : Н), легированном в процессе роста примесью фосфора. Показано, что концентрационное распределение олова, получающееся в результате отжига при $300^{\circ}$С, имеет диффузионный характер и скорость диффузии зависит от степени дефектности структуры $a$-Si : Н. Проведена оценка порядка величины коэффициентов диффузии олова в слоях $a$-Si : Н с различной структурой. Полученные результаты имеют практическое значение при прогнозировании стабильности и долговечности пленочных солнечных элементов на основе аморфного гидрированного кремния.