Аннотация:
Проведены исследования влияния сверхвысокого
давления до 35 ГПа, создаваемого в алмазной камере, на сопротивление
$\rho$ и термоэдс $\alpha$ мало изученного полупроводника — HgO.
Для исследований взят порошок желтой окиси ртути. Исходная структура
HgO изоморфна гексагональной киновари $\alpha$-HgS. Обнаружены резкое
уменьшение $\rho$ и $\alpha$, а также энергии активации проводимости
в диапазоне давлений 0$-$10 ГПа и переход в состояние с металлической
проводимостью при ${P> 10}$ ГПа. Измерения проведены в диапазоне
температур 290$-$370 K. Полученные данные сопоставляются с результатами аналогичных
исследований, выполненных на халькогенидах ртути — HgTe, HgSe и HgS.