RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1984, том 18, выпуск 1, страницы 83–85 (Mi phts1557)

Влияние редкоземельных элементов на подвижность носителей в эпитаксиальных слоях InP и InGaAs

Н. Т. Баграев, Л. С. Власенко, К. А. Гацоев, А. Т. Гореленок, А. В. Каманин, В. В. Мамутин, Б. В. Пушный, В. К. Тибилов, Ю. П. Толпаров, А. Е. Шубин

Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР, г. Ленинград

Аннотация: Описывается получение жидкофазной эпитаксией слоев InP и InGaAs с низкой концентрацией электронов (${\sim5\cdot10^{13}\,\text{см}^{-3}}$) и высокой подвижностью (${\sim100\,000\,\text{см}^{2}/\text{В}\cdot\text{с}}$), необходимых для создания фотоприемников на диапазон длин волн $1.0{-}1.7$ мкм с помощью легирования раствора-расплава гадолинием и иттербием в узком диапазоне концентрации. Посредством ЭПР обнаружено уменьшение на несколько порядков концентрации донорных центров, связанных с распадом твердых растворов остаточных примесей углерода, кислорода и кремния.

Поступила в редакцию: 06.07.1983
Принята в печать: 20.07.1983



© МИАН, 2025