RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1984, том 18, выпуск 4, страницы 600–603 (Mi phts1688)

Диоды Шоттки на основе компенсированного $p$-InP

Г. Г. Ковалевская, Е. В. Руссу, С. В. Слободчиков, В. Г. Смирнов, В. М. Фетисова, Г. М. Филаретова

Северо-Кавказский горно-металлургический институт (государственный технологический университет)

Аннотация: На диодах Шоттки Au/$p$-InP, созданных на основе компенсированных кристаллов с ${p=2\div7)\cdot10^{14}\,\text{см}^{-3}}$, измерены вольтамперные (ВАХ), вольтъемкостные (ВЕХ) характеристики, а также спектральная фоточувствительность (СФ) при 295 и 104 K. Показано, что в механизме токопрохождения помимо термоэлектронного необходимо учитывать генерационно-рекомбинационный ток, причем при 104 K последний становится преобладающим. Высота барьера ${\Phi_{b}=0.5\div0.6}$ эВ и ее бо́льшая величина, вероятно, определяется образованием окисного слоя. Особенности СФ в собственной области поглощения при 104 K объяснены с учетом вклада в полный ток генерационно-рекомбинационной компоненты и вклада в фототок фотоносителей из спин-орбитально расщепленной валентной подзоны.

УДК: 621.315.592

Поступила в редакцию: 07.02.1983
Принята в печать: 15.10.1983



© МИАН, 2024