RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Физика и техника полупроводников
// Архив
Физика и техника полупроводников,
1984
, том 18,
выпуск 6,
страницы
1098–1100
(Mi phts1810)
Краткие сообщения
Исследование влияния режимов ионной имплантации и отжига карбида кремния на кристаллическую структуру и сопротивление слоев
$p$
-типа
проводимости
В. А. Гудков
,
Г. А. Крысов
,
В. В. Макаров
Ленинградский политехнический институт им. М. И. Калинина
УДК:
621.315.592
Поступила в редакцию:
22.08.1983
Принята в печать:
02.12.1983
Полный текст:
PDF файл (714 kB)
©
МИАН
, 2024