RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1984, том 18, выпуск 6, страницы 1098–1100 (Mi phts1810)

Краткие сообщения

Исследование влияния режимов ионной имплантации и отжига карбида кремния на кристаллическую структуру и сопротивление слоев $p$-типа проводимости

В. А. Гудков, Г. А. Крысов, В. В. Макаров

Ленинградский политехнический институт им. М. И. Калинина

УДК: 621.315.592

Поступила в редакцию: 22.08.1983
Принята в печать: 02.12.1983



© МИАН, 2024