RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1984, том 18, выпуск 7, страницы 1256–1262 (Mi phts1845)

О кинетике нарастания вентильной фотоэдс барьерной структуры

А. А. Быковников, О. В. Иванова, О. В. Константинов, Т. В. Львова, О. А. Мезрин

Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР, г. Ленинград

Аннотация: Теоретически и экспериментально изучается нарастание фотоэдс в отключенной барьерной структуре при ее засветке. Показано, что в течение практически всего процесса нарастания фотоэдс можно пренебречь током инжекции. Тогда при постоянной интенсивности засветки заряд барьерной структуры изменяется со временем по линейному закону. Это позволяет использовать такой режим работы для определения квантовой эффективности фотодиода, а при известной квантовой эффективности — для определения зависимости барьерной емкости от смещения.
Эксперименты, проведенные на структурах металл–полупроводник, подтвердили существование безынжекционного режима и позволили определить концентрацию ионизированных глубоких центров как функцию интенсивности засветки.

УДК: 621.315.592

Поступила в редакцию: 16.02.1984
Принята в печать: 21.02.1984



© МИАН, 2024