RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1986, том 20, выпуск 5, страницы 818–821 (Mi phts196)

Фотоэлектрические и оптические свойства пленок $a$-Si : H с имплантированными ионами фосфора и бора

И. П. Акимченко, В. С. Вавилов, А. Н. Каррыев, И. А. Курова, К. Б. Читая

Физический институт им. П. Н. Лебедева АН СССР, г. Москва

Аннотация: Приводятся результаты комплексного исследования свойств пленок $a$-Si : Н, легированных методом имплантации ионов В и Р, т. е. примесями, которые обычно используются при легировании в процессе роста пленки. На одних и тех же образцах измерялись температурные зависимости электропроводности, спектры оптического поглощения, фотопроводимости и фотолюминесценции. Для сравнения проведены некоторые исследования исходных нелегированных пленок и легированных из газовой фазы.

УДК: 621.315.592

Поступила в редакцию: 04.11.1985
Принята в печать: 10.11.1985



© МИАН, 2024