Физика и техника полупроводников,
1984, том 18, выпуск 11,страницы 2061–2065(Mi phts2042)
Динамика аннигиляции дефектов в полупроводниковых кристаллах
под действием малых доз излучения
П. А. Черданцев, И. П. Чернов, Ю. А. Тимошников, В. А. Коротченко, А. П. Мамонтов
Аннотация:
Приводятся результаты тепловых измерений в процессе
облучения дефектных полупроводниковых кристаллов $\gamma$-квантами.
Подъем температуры кристалла за счет выделяемой при аннигиляции дефектов
энергии составляет 2.6 K. Малое тепловыделение объясняется
поглощением энергии аннигиляции скоплениями дефектов.