RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1986, том 20, выпуск 5, страницы 864–868 (Mi phts205)

Вольтамперные характеристики варизонных структур с двойной инжекцией

В. М. Арутюнян, А. Т. Дарбасян

Ереванский государственный университет

Аннотация: Проведено теоретическое исследование вольтамперных характеристик $P^{+}{-}N{-}N^{+}$-структур с варизонной базой. Показано, что при существенно больших градиентах ширины запрещенной зоны на ВАХ базы можно выделить три участка: 1)  линейный, характерный для малых уровней инжекции: 2)  участок выброса по напряжению, или участок, где невозможно стационарное токопрохождение; он обусловлен увеличением диффузионно-дрейфовых длин носителей заряда с ростом тока; 3)  участок, где влияние варизонности начинает ослабевать. Показано также, что при больших отрицательных значениях встроенных полей в широком диапазоне токов сопротивление базы диода постоянному току отрицательно.

УДК: 621.315.592

Поступила в редакцию: 20.11.1984
Принята в печать: 29.11.1985



© МИАН, 2024