RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1983, том 17, выпуск 2, страницы 235–241 (Mi phts2143)

Интерференционный лазерный отжиг полупроводников

Ж. И. Алфров, В. Н. Абакумов, Ю. В. Ковальчук, Г. В. Островская, Е. Л. Портной, В. Б. Смирницкий, И. А. Соколов


Аннотация: Под интерференционным лазерным отжигом (ИЛО) понимается воздействие мощного лазерного излучения, являющегося когерентной суперпозицией двух и более световых пучков, интерферирующих между собой на поверхности или внутри полупроводника. В работе показаны возможности ИЛО в создании новых методов контроля кристаллизации аморфных напыленных и ионно-имплантированных слоев под действием лазерного излучения и в исследовании физических процессов, имеющих место при лазерном отжиге. Рассмотрены также вопросы, связанные с развитием новых технологических методов создания элементов и устройств интегральной оптики.



© МИАН, 2024