Аннотация:
Под интерференционным лазерным отжигом (ИЛО) понимается
воздействие мощного лазерного излучения, являющегося когерентной суперпозицией
двух и более световых пучков, интерферирующих между собой на поверхности
или внутри полупроводника. В работе показаны возможности ИЛО в создании новых
методов контроля кристаллизации аморфных напыленных и ионно-имплантированных
слоев под действием лазерного излучения и в исследовании физических процессов,
имеющих место при лазерном отжиге. Рассмотрены также вопросы, связанные
с развитием новых технологических методов создания элементов и устройств
интегральной оптики.