Аннотация:
В $n$-Si, легированном серой при $900{-}1100^{\circ}$С,
обнаружены четыре глубоких уровня (ГУ) с энергиями ионизации
0.184, 0.35, 0.3 и 0.56 эВ ($A$, $D$, $C$ и $D$ соответственно), которые по
своим свойствам распадаются на две группы $A{-}B$ и $C{-}D$. На основании
анализа экспериментальных и литературных данных высказана гипотеза, что ГУ
$A$ и $B$ связаны с комплексами сера–вакансия, а ГУ $C$ и $D$ — с
междоузельными центрами. Показано, что образование комплексов вакансионного
типа стимулирует образование комплексов с участием междоузельных атомов Si.