Аннотация:
Установлено, что электростатические свойства
эпитаксиальных SiC-$6H$$p$(А1)${-}n(N)$-структур с резким
$p{-}n$-переходом в широком интервале температур
(${300\div800}$ K) соответствуют теории Шокли, и на основании этого
определены их электростатические параметры. Показано, что уменьшение диффузионной разности потенциалов на
$p{-}n$-переходе с ростом температуры определяется главным образом
температурным ходом химических потенциалов электронов в $n$-области
и дырок в $p$-области, а не температурной зависимостью ширины запретной зоны.