Аннотация:
Измерены вольтамперные характеристики большого числа слабо
легированных и слабо компенсированных образцов Si $n$- и
$p$-типа в области прыжковой проводимости с постоянной энергией активации
$\varepsilon_{3}$. Оказалось, что электропроводность экспоненциально
растет с ростом электрического поля, что удается качественно
объяснить эффектом уменьшения энергии отрыва носителей от заряженных компенсирующих
примесей, аналогичным эффекту Френкеля$-$Пула. Построена теория, позволяющая вычислить
число оторванных носителей с учетом перераспределения их между
1- и 2-комплексами. Хотя экспериментальные зависимости
электропроводности от поля и температуры удовлетворяют предсказанному теорией скэйлингу,
количественное согласие между экспериментом и теорией отсутствует.