RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1989, том 23, выпуск 2, страницы 323–327 (Mi phts3238)

Методика и результаты исследования кинетики поверхностной ЭДС в GaAs

Т. П. Ершова, С. Г. Ершов, В. Е. Жуков, В. В. Кораблев, В. Ю. Тюкин


Аннотация: Рассмотрен электронно-зондовый метод регистрации поверхностной ЭДС, возбужденной импульсным облучением поверхности полупроводника квантами света и электронами. Метод обладает высоким пространственным разрешением и широким динамическим диапазоном измеряемых времен релаксации области пространственного заряда. Проведено исследование кинетики поверхностной фотоэдс в GaAs и показано, что доминирующим механизмом формирования ЭДС является захват неравновесных носителей па поверхностные состояния.



© МИАН, 2024