Аннотация:
Исследованы процессы тушения и регенерации фотопроводимости
в твердых растворах Si$-$Ge, содержащих
центры Аu$^{0}$ и донорно-акцепторные пары Р$^{+}{-}$Аи$^{-}$.
Полученные результаты объясняются в рамках модели
глубокого центра с локальной отрицательной корреляционной
энергией, туннелирующего при перезарядке
между позициями off-центра и узлом решетки. Показано,
что тушение и регенерация фотопроводимости
определяются пиннингом уровня Ферми вблизи поверхности кристалла
и динамикой туннелирования центров золота, которая
в условиях внешнего и внутреннего электрических полей зависит от величины
штарк-эффекта на глубоком дефекте.