Физика и техника полупроводников,
1989, том 23, выпуск 4,страницы 725–727(Mi phts3329)
Краткие сообщения
Сравнение параметров глубоких центров в высокоомных полупроводниках
при измерении методом фотоэлектрической релаксационной спектроскопии
в вариантах температурного и частотного сканирования