RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1989, том 23, выпуск 4, страницы 725–727 (Mi phts3329)

Краткие сообщения

Сравнение параметров глубоких центров в высокоомных полупроводниках при измерении методом фотоэлектрической релаксационной спектроскопии в вариантах температурного и частотного сканирования

Э. М. Омельяновский, А. Я. Поляков, М. В. Тишкин




© МИАН, 2024