RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1989, том 23, выпуск 5, страницы 872–874 (Mi phts3360)

Краткие сообщения

Частотная зависимость ширины линии ЭПР в аморфном кремнии в интервале $9\div130$ ГГц

А. А. Бугай, И. М. Зарицкий, С. Н. Лукин, Е. И. Неймарк, Н. Н. Кабдин




© МИАН, 2024