RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1989, том 23, выпуск 5, страницы 914–916 (Mi phts3377)

Краткие сообщения

Эффективность аннигиляции компонентов пар Френкеля на атомах кислорода в Si

В. И. Шаховцов, И. И. Ясковец




© МИАН, 2024