RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1989, том 23, выпуск 7, страницы 1156–1159 (Mi phts3427)

Край оптического поглощения «чистых» эпитаксиальных слоев InP

М. А. Абдуллаев, С. И. Кохановский, Ю. М. Макушенко, Р. П. Сейсян


Аннотация: На краю поглощения «чистых» эпитаксиальных слоев InP впервые наблюдалась при 2 K экситонная структура, включающая в себя помимо основного (${n_{0}=1}$) и возбужденные (${n_{0}=2,\,3}$) состояния экситона, а также максимумы поглощения ЭПК «нейтральный донор$-$экситон» ($D^{0},\,X$). Основное состояние экситона удается наблюдать и при комнатной температуре, несмотря на малость энергии связи ${R^{*}\ll kT}$. Выполненный расчет $R^{*}$ при учете вырождения и гофрировки валентной зоны согласуется с экспериментом при ${R^{*}=5.0\pm0.1}$ мэВ и ${\varepsilon_{g}^{0}=1424.3\pm0.1}$ мэВ. Экспериментально измерена зависимость полуширины основного состояния $\Gamma$ от температуры, которая складывается из членов: остаточного $\Gamma_{0}(N_{I}$), не зависящего от $T$ и $\Gamma_{\text{ф}}(T)$, растущего с $T$ пропорционально функции заполнения состояний $LO$-фононов; при этом коэффициент пропорциональности $A_{\text{ф}}$ на порядок превосходит $A_{\text{ф}}^{e}$, даваемый фрлиховской константой электрон-фононного взаимодействия.



© МИАН, 2024