Аннотация:
На краю поглощения «чистых»
эпитаксиальных слоев InP впервые наблюдалась при 2 K экситонная структура,
включающая в себя помимо основного (${n_{0}=1}$) и возбужденные
(${n_{0}=2,\,3}$) состояния экситона, а также максимумы
поглощения ЭПК «нейтральный донор$-$экситон» ($D^{0},\,X$).
Основное состояние экситона удается наблюдать и при комнатной
температуре, несмотря на малость энергии связи ${R^{*}\ll kT}$.
Выполненный расчет $R^{*}$ при учете вырождения и гофрировки
валентной зоны согласуется с экспериментом при ${R^{*}=5.0\pm0.1}$ мэВ
и ${\varepsilon_{g}^{0}=1424.3\pm0.1}$ мэВ. Экспериментально измерена
зависимость полуширины основного состояния $\Gamma$ от температуры,
которая складывается из членов: остаточного $\Gamma_{0}(N_{I}$), не
зависящего от $T$ и $\Gamma_{\text{ф}}(T)$, растущего с $T$
пропорционально функции заполнения состояний $LO$-фононов; при этом
коэффициент пропорциональности $A_{\text{ф}}$ на порядок превосходит
$A_{\text{ф}}^{e}$, даваемый фрлиховской константой
электрон-фононного взаимодействия.