RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1989, том 23, выпуск 8, страницы 1411–1415 (Mi phts3482)

Определение электрофизических параметров тонких гетероэпитаксиальных слоев в растровом электронном микроскопе (теория)

С. Г. Конников, В. А. Соловьев, В. Е. Уманский, В. М. Чистяков


Аннотация: Теоретически рассмотрен новый метод определения электрофизических параметров неосновных носителей заряда в режиме тока, индуцированного электронным зондом, в эпнтаксиальных слоях, толщина которых меньше величины диффузионной длины носителей. Анализируются возможности одновременного определения диффузионной длины и скорости интерфейсной рекомбинации в гетероэпитаксиальных пленках.
Показано, что, несмотря на сравнительно сложное теоретическое описание метода, могут быть выбраны условия измерений, при которых искомые параметры определяются по экспоненциальной координатной зависимости сигнала индуцированного тока.



© МИАН, 2024