Аннотация:
Анализируется корректность использования структур типа
М$-$П$-$М в методе нестационарной емкостной спектроскопии
глубоких уровней (DLTS). Для их аттестации предлагается использовать
особенности амплитудной характеристики импульсного фотоотклика структуры,
смещенной в запорном направлении, выявляющие наличие потенциального барьера
на тыловом контакте. Вариацией приемов создания тылового контакта типа
М$-$П показана возможность получения структур, где указанный барьер
отсутствует. Проведена их апробация при исследовании свойств и распределения
по глубине центров в запрещенной зоне в высокоомном
исходном и термообработанном Si с ${\rho\sim 1\,\text{кОм}\cdot\text{см}}$.