RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1989, том 23, выпуск 9, страницы 1651–1653 (Mi phts3535)

Влияние легирования расплава-раствора гадолинием и алюминием на электрические и люминесцентные свойства эпитаксиальных слоев GaSb

Г. И. Виноградова, Д. Т. Гогаладзе, А. М. Лошинский, Е. В. Соловьева, Л. М. Долгинов


Аннотация: Методами эффекта Холла и фотолюминесцении исследованы эпитаксиальные слои антимонида галлия, легированного примесями Gd и Al, а также нелегированные слои в зависимости от состава и отжига раствора-расплава. Показано, что во всех указанных случаях происходит уменьшение концентрации акцепторных центров с энергиями ионизации ${E_{1}\sim0.035}$ и ${E_{2}\sim0.08}$ эВ. Предлагаются две модели, позволяющие объяснить полученные результаты.



© МИАН, 2024