RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1990, том 24, выпуск 7, страницы 1194–1199 (Mi phts3917)

Фотолюминесцентные свойства GaAs, легированного рением

В. М. Андреев, А. М. Васильев, Н. С. Зимогорова, В. М. Лантратов, В. И. Мырзин


Аннотация: Показано, что получение GaAs методом жидкофазнои эпитаксии в условиях введения малых количеств рения в жидкую фазу позволяет улучшать целый ряд свойств выращенных таким образом эпитаксиальных слоев по сравнению со свойствами контрольного нелегированного материала.
Обнаружено, что при введении рения в раствор$-$расплав в малых количествах ($\sim 0.002$ мас %) происходит улучшение электрических и люминесцентных свойств материала: уменьшаются степень компенсации и концентрация электронов в слоях, возрастает подвижность электронов, отмечается увеличение интенсивности люминесценции.
Сравнительный анализ низкотемпературных спектров фотолюминесценции нелегированного и легированного материалов позволяет показать, что в результате легирования раствора$-$расплава рением происходит смена фоновой акцепторной примеси в материале (в GaAs : Re превалирует Si, в контрольных слоях — C). Спектр краевой полосы ФЛ легированного рением $n$-GaAs содержит линию, обусловленную экситонно-донорными комплексами, а также пик рекомбинации свободных экситонов, что характерно для чистого материала.
Изложен и обсужден возможный механизм воздействия рения на свойства материала



© МИАН, 2024