Аннотация:
Показано, что темп междузонных ИК переходов в деформированном
узкощелевом полупроводнике существенно
изменяется уже при малых деформациях,
когда величина индуцированного сжатием расщепления между подзонами
валентной зоны становится сравнимой с тепловой
энергией дырок. При этом скорость излучательной рекомбинации
увеличивается, а на зависимости коэффициента собственного
поглощения от частоты падающего излучения появляется
характерный излом, связанный с включением переходов
из нижней валентной подзоны. Результаты расчета находятся в
хорошем соответствии с экспериментальными данными.