RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1986, том 20, выпуск 9, страницы 1726–1728 (Mi phts398)

Краткие сообщения

Отжиг дефектов и электрическая активация примеси в процессе высокоинтенсивного ионного легирования кремния

Ф. Ф. Комаров, А. П. Новиков, И. А. Радишевский, Т. Т. Самойлюк, В. П. Толстых




© МИАН, 2024