Физика и техника полупроводников,
1990, том 24, выпуск 11,страницы 1943–1947(Mi phts4066)
Диффузионное легирование пленок $a$-Si : H примесями Sn, Ag, Fe
и его влияние на электрические свойства
М. С. Аблова, Г. С. Куликов, С. К. Першеев, К. X. Ходжаев
Аннотация:
На основе изучения в интервале температур
$290{-}525^{\circ}$C диффузии и растворимости примесей олова, железа
и серебра в пленках аморфного гидрогенизпрованного кремния ($a$-Si : H)
определен режим диффузионного легирования, получены диффузионно легированные
этими металлами пленки $a$-Si : H и исследована их темновая
и фотопроводимость. Диффузионное легирование металлами приводит к появлению
больших энергий активации электропроводности (до 1.4 эВ,
т. е. ${E^{\sigma}_{A}>E^{h\nu}_{g}/2}$). не типичных для собственного
материала. Циклический нагрев легированных пленок в интервале
температур $20{-}200^{\circ}$C приводит к постепенному возврату их
электрических свойств к свойствам исходного $a$-Si : H, что
подобно явлению распада пересыщенного твердого раствора в кристаллах.