Аннотация:
Проведено исследование времени жизни и диффузионных длин
неосновных носителей тока в $p{-}n$-структурах, изготовленных на основе
$6H$-SiC по различным технологиям. Методом DLTS исследованы концентрации
и параметры имеющихся в этих структурах глубоких уровней (ГУ). Исходя из статистики Шокли$-$Рида показано, что два обнаруженных ГУ
($S({E_{c}-0.35}\,\text{эВ})$ и $R({E_{c}-1.27}$ эВ)) могут
определять рекомбинационные процессы в исследовавшихся $p{-}n$-структурах.