RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1991, том 25, выпуск 3, страницы 479–486 (Mi phts4235)

Рекомбинационные процессы в $6H$-SiC $p{-}n$-структурах и влияние на них глубоких центров

М. М. Аникин, А. С. Зубрилов, А. А. Лебедев, А. П. Стрельчук, А. Е. Черенков


Аннотация: Проведено исследование времени жизни и диффузионных длин неосновных носителей тока в $p{-}n$-структурах, изготовленных на основе $6H$-SiC по различным технологиям. Методом DLTS исследованы концентрации и параметры имеющихся в этих структурах глубоких уровней (ГУ).
Исходя из статистики Шокли$-$Рида показано, что два обнаруженных ГУ ($S({E_{c}-0.35}\,\text{эВ})$ и $R({E_{c}-1.27}$ эВ)) могут определять рекомбинационные процессы в исследовавшихся $p{-}n$-структурах.



© МИАН, 2024