RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1991, том 25, выпуск 3, страницы 561–564 (Mi phts4250)

Краткие сообщения

Зависимость скорости образования вторичных дефектов в $p$-Si от интенсивности электронного облучения

В. В. Емцев, П. М. Клингер, К. М. Миразизян




© МИАН, 2024