Аннотация:
Предложен механизм изменения инжектирующей
способности контактов к эпитаксиальным
пленкам сильно легированного ($N_{\text{a}} \geqslant 10^{19}$ см$^{-3}$)
и сильно компенсированного арсенида галлия
$p$-типа, выращенным на полуизолирующих подложках GaAs(Cr),
объясняющий явления
стимуляции проводимости образцов электрическим полем и светом,
замороженную проводимость и полевое гашение проводимости.
Установлены наличие и определяющая роль в
электропроводности канала электронной проводимости,
расположенного на границе перехода
пленка$-$подложка. Оценены параметры канала
электронной проводимости. Найдено, что
сверхлинейный характер вольт-амперных
характеристик образцов обусловлен как расширением
канала, так и повышением подвижности в
нем с ростом приложенного к образцу напряжения.