RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1992, том 26, выпуск 1, страницы 66–70 (Mi phts4553)

Фотопроводимость и плотность состояний аморфного гидрированного кремния, легированного бором

О. А. Голикова, У. С. Бабаходжаев, В. В. Дубро, Р. Г. Икрамов, М. М. Казанин, М. М. Мездрогина, Р. Р. Яфаев


Аннотация: Исследованы фото- и темновая проводимость $a$-Si : H, легированного ионной имплантацией и из газовой фазы, в зависимости от степени легирования, а также параметр Урбаха и дефектное поглощение полученных образцов. Показано, что при слабом легировании бором (для «собственных» образцов) $(\mu\tau)^{(n),(p)}$ мало зависят от способа легирования. Установлено, что параметр Урбаха и дефектное поглощение легированных образцов являются функциями положения уровня Ферми в щели подвижности.



© МИАН, 2024