Физика и техника полупроводников,
1992, том 26, выпуск 1,страницы 66–70(Mi phts4553)
Фотопроводимость и плотность состояний аморфного гидрированного
кремния, легированного бором
О. А. Голикова, У. С. Бабаходжаев, В. В. Дубро, Р. Г. Икрамов, М. М. Казанин, М. М. Мездрогина, Р. Р. Яфаев
Аннотация:
Исследованы фото- и темновая проводимость $a$-Si : H, легированного
ионной имплантацией и из газовой фазы, в зависимости от степени легирования,
а также параметр Урбаха и дефектное поглощение полученных образцов. Показано,
что при слабом легировании бором (для «собственных» образцов)
$(\mu\tau)^{(n),(p)}$ мало зависят от способа легирования. Установлено, что
параметр Урбаха и дефектное поглощение легированных образцов являются
функциями положения уровня Ферми в щели подвижности.