Физика и техника полупроводников,
1992, том 26, выпуск 3,страницы 447–453(Mi phts4608)
Образование и свойства термодоноров при отжигах ниже $550^{\circ}$C
в кристаллах кремния, выращенных по методу Чохральского
В. М. Бабич, Н. П. Баран, Ю. П. Доценко, К. И. Зотов, В. Б. Ковальчук, В. М. Максименко
Аннотация:
С помощью эффекта Холла и метода ЭПР исследованы особенности
процесса образования и свойства донорных центров (термодоноров),
образованных в результате длительных (до 500 ч) отжигов
в интервале температур ${450\div550}^{\circ}$C кристаллов
$n$-Si$\langle\text{P}\rangle$ с различным содержанием примеси углерода,
выращенных по методу Чохральского. Установлено, что после длительных отжигов происходит разрушение семейства
двухзарядных термодоноров с уровнями ${E_{1}=60\div70}$ и
${E_{2}=120\div150}$ мэВ, но одновременно с этим образуется два
набора мелких однозарядных доноров иной природы, глубина уровней которых
лежит в интервале ${E_{i}=24\div38}$ мэВ. В работе предполагается
возможная природа этих центров.