RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1992, том 26, выпуск 3, страницы 447–453 (Mi phts4608)

Образование и свойства термодоноров при отжигах ниже $550^{\circ}$C в кристаллах кремния, выращенных по методу Чохральского

В. М. Бабич, Н. П. Баран, Ю. П. Доценко, К. И. Зотов, В. Б. Ковальчук, В. М. Максименко


Аннотация: С помощью эффекта Холла и метода ЭПР исследованы особенности процесса образования и свойства донорных центров (термодоноров), образованных в результате длительных (до 500 ч) отжигов в интервале температур ${450\div550}^{\circ}$C кристаллов $n$-Si$\langle\text{P}\rangle$ с различным содержанием примеси углерода, выращенных по методу Чохральского.
Установлено, что после длительных отжигов происходит разрушение семейства двухзарядных термодоноров с уровнями ${E_{1}=60\div70}$ и ${E_{2}=120\div150}$ мэВ, но одновременно с этим образуется два набора мелких однозарядных доноров иной природы, глубина уровней которых лежит в интервале ${E_{i}=24\div38}$ мэВ. В работе предполагается возможная природа этих центров.



© МИАН, 2024