Аннотация:
Исследовано влияние облучения ионами азота с энергией
${\sim18}$ МэВ на характеристики $n$-GaAs.
Ранее такое облучение использовалось для создания вблизи
зеркал GaAs/GaAlAs-лазеров областей
эффективного насыщающегося поглотителя. Исследованы зависимости от дозы облучения сопротивления, кинетики спада
фотопроводимости при низком уровне возбуждения и низкочастотного шума.
Полученные результаты противоречат ранее высказанному предположению,
что под влиянием облучения ионами в материале возникают тонкие
аморфизированные цилиндры вдоль треков пробега частиц. Результаты
свидетельствуют в пользу
того, что основным механизмом дефектообразования в области исследованных
доз ${10^{10}\leqslant\Phi\leqslant10^{12}}$ см$^{-2}$
является генерация точечных акцепторных дефектов.