RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1992, том 26, выпуск 5, страницы 911–914 (Mi phts4687)

Спектры испускания силикатного пористого стекла, возбуждаемые лазерным излучением в области прозрачности SiO$_{2}$

В. Н. Бегер, В. И. Земский, А. В. Сечкарев


Аннотация: Зарегистрированы широкополосные спектры испускания силикатного пористого стекла, возбуждаемые лазерным излучением видимого диапазона. С целью исследования характеристик спектров и выявления их природы проведена вариация ряда экспериментальных условий. Изучена зависимость спектральных параметров от частоты возбуждающего света, условий подготовки и температуры образца, интенсивности и длительности возбуждения. Обнаружено уменьшение интенсивности спектров испускания со временем при стационарном возбуждении с последующим восстановлением интенсивности после выдержки пористого стекла в темноте. Установлено, что зависимость интегральной интенсивности спектров испускания от температуры носит гистерезисный характер. Предполагается, что природа данных спектров связана с наличием в пористом стекле большого числа локализованных электронных состояний в запрещенной зоне SiO$_{2}$, порожденных развитой внутренней поверхностью пористого стекла и ее неоднородностью.



© МИАН, 2024