RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1992, том 26, выпуск 7, страницы 1251–1255 (Mi phts4738)

Исследование оптических характеристик эпитаксиальных слоев ZnSe/GaAs (100), выращенных методами молекулярно-лучевой эпитаксии и газофазной эпитаксии

А. В. Коваленко, А. Ю. Мекекечко, Н. В. Бондарь, В. В. Тищенко, Ю. М. Щекочихин, С. М. Румянцева, И. С. Малашенко

Днепропетровский государственный университет

Аннотация: Проведен анализ спектров отражения и фотолюминесценции эпитаксиальных слоев ZnSe/GaAs (100), полученных методами молекулярно-лучевой эпитаксии и газофазной эпитаксии. Указан характер расщепления валентной зоны на подзоны тяжелых и легких дырок из-за деформационных эффектов. Обсуждается возможность рекомбинации связанных экситонов на одном нейтральном доноре в зависимости от эффективных масс дырок. Сделан вывод, что полученные слои являются экстремально чистыми, так как в них отсутствует излучение, связанное с донорно-акцепторными парами, самоактивированной люминесценции, и наблюдается интенсивное излучение в экситонной области с проявлением двухэлектронных переходов.

Поступила в редакцию: 18.11.1991
Принята в печать: 30.01.1992



© МИАН, 2025