Физика и техника полупроводников,
2021, том 55, выпуск 12,страницы 1255–1259(Mi phts4926)
Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур
Влияние асимметрии расположения металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при реактивно-ионном травлении массивных подложек
Аннотация:
Теоретически и экспериментально исследовано влияние степени асимметрии расположения металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при селективном реактивно-ионном травлении массивных подложек в плазмообразующих газовых смесях на основе фреона-14. Теоретически показано отсутствие влияния асимметрии расположения маски на удельную реактивную мощность. Показано, что на краю подложки, особенно с маской, возникает резкий рост плотности высокочастотного тока, доказывающий преимущественно поверхностный (торцевой) характер его протекания. Установлено влияние расположения маски на поведение плотности электрических зарядов, коррелирующее с распределением плотности высокочастотного тока в приповерхностном слое подложки. Перераспределения плотности заряда химически активных частиц плазмы на краю маски при этом обнаружено не было. В соответствии с полученными теоретическими результатами экспериментально показано, что металлические маски с соотношением длин сторон 36/0 мм снижают коэффициент отражения по мощности в пределах 5%.