RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2021, том 55, выпуск 11, страницы 1049–1058 (Mi phts4941)

Поверхность, границы раздела, тонкие пленки

Химически осажденные пленки сульфида свинца, легированные кобальтом

Л. Н. Маскаеваab, Е. В. Мостовщиковаc, В. Ф. Марковab, В. И. Воронинc, А. В. Поздинa, И. О. Селянинd, А. И. Михайловаa

a Уральский федеральный университет им. первого Президента России Б. Н. Ельцина, г. Екатеринбург
b Уральский институт государственной противопожарной службы МЧС России
c Институт физики металлов им. М.Н. Михеева УрО РАН, г. Екатеринбург
d Институт химии твердого тела УрО РАН, г. Екатеринбург

Аннотация: В настоящей работе, являющейся продолжением исследований по легированию химически осажденных слоев PbS(I), обсуждается влияние ионов кобальта на их морфологические, структурные, оптические и фотоэлектрические свойства. Элементным энергодисперсионным анализом показано, что кобальт обнаруживается в пленках при концентрации его хлорида в реакционной смеси $\ge$ 0.04 моль/л. Полученные пленки PbS(I, Co) сохраняют кубическую $B$1 структуру (пр. гр. $Fm\bar{3}m$). Установлена тенденция повышения ширины запрещенной зоны пленок PbS(I, Co) от 0.57 до 0.75 эВ с ростом в них содержания наночастиц с 1 до $\sim$8% при 1.5-часовом осаждении и от 0.57 до 0.68 эВ – с 13 до $\sim$28% при 3-часовом процессе. На концентрационной зависимости вольтовой чувствительности пленок PbS(I, Co), осажденных в течение 1.5 ч, наблюдаются два максимума, соответствующие 1 и 4% содержанию в них наночастиц. При трехчасовом процессе синтеза отмечено резкое снижение фотоответа с увеличением содержания частиц нанодиапазона до $\sim$13–28% в слоях PbS(I, Co). Показано, что плотность фототока снижается с увеличением содержания наночастиц в пленках в ряду PbS(Сo)$\to$PbS$\to$PbS(I, Сo)$\to$PbS(I).

Ключевые слова: сульфид свинца, химическое осаждение, легирование кобальтом, морфология пленок, структурные свойства, ширина запрещенной зоны, вольтовая и токовая фоточувствительность.

Поступила в редакцию: 02.07.2021
Исправленный вариант: 16.07.2021
Принята в печать: 16.07.2021

DOI: 10.21883/FTP.2021.11.51560.9706



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024