Аннотация:
В эпитаксиальном $4H$-SiC после ионной имплантации Аl обнаружено два глубоких
центра с энергиями ионизации ${E_{i}=E_{v}+0.26}$ и ${E_{i}=E_{v}+0.57}$ эВ
($i$-центр). Исследован профиль распределения $i$-центров. Отмечается
сходство полученных DLTS-спектров с результатами исследования
аналогичных структур на основе политипа $6H$.