RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1986, том 20, выпуск 12, страницы 2169–2172 (Mi phts495)

Емкостная спектроскопия $p{-}n$-переходов на основе эпитаксиального $4H$-SiC, полученного ионной имплантацией Al

М. М. Аникин, А. А. Лебедев, А. А. Лебедев, А. Л. Сыркин, А. В. Суворов


Аннотация: В эпитаксиальном $4H$-SiC после ионной имплантации Аl обнаружено два глубоких центра с энергиями ионизации ${E_{i}=E_{v}+0.26}$ и ${E_{i}=E_{v}+0.57}$ эВ ($i$-центр). Исследован профиль распределения $i$-центров. Отмечается сходство полученных DLTS-спектров с результатами исследования аналогичных структур на основе политипа $6H$.



© МИАН, 2024