RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2021, том 55, выпуск 10, страницы 872–876 (Mi phts4955)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

XXV Международный симпозиум "Нанофизика и наноэлектроника", Нижний Новгород, 9-12 марта 2021 г.

Анализ влияния спейсерных слоев на нелинейные искажения вольт-амперных характеристик pHEMT на основе соединения GaAlAs/InGaAs

Е. А. Тарасоваa, С. В. Хазановаa, О. Л. Голиковa, А. С. Пузановa, С. В. Оболенскийa, В. Е. Земляковb

a Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
b Национальный исследовательский университет "МИЭТ"

Аннотация: Работа посвящена результатам моделирования электрофизических параметров pHEMT структур на основе соединения AlGaAs/InGaAs/GaAs с помощью самосогласованного решения уравнения Шредингера и Пуассона. На основании численных расчетов предложен метод анализа нелинейных искажений передаточных вольт-амперных характеристик исследуемых транзисторов. Проведена оценка влияния спейсерных слоев и степени легирования $\delta$-слоя на нелинейность вольт-амперных характеристик.

Ключевые слова: AlGaAs/InGaAs/GaAs pHEMT, нелинейные искажения, спейсерные слои.

Поступила в редакцию: 12.04.2021
Исправленный вариант: 19.04.2021
Принята в печать: 19.04.2021

DOI: 10.21883/FTP.2021.10.51436.35


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2021, 55:12, 895–898

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024