RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2021, том 55, выпуск 7, страницы 614–617 (Mi phts5018)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Физика полупроводниковых приборов

Влияние внутренних отражателей на эффективность инфракрасных (850 нм) светодиодов

А. В. Малевская, Н. А. Калюжный, Д. А. Малевский, С. А. Минтаиров, Р. А. Салий, А. Н. Паньчак, П. В. Покровский, Н. С. Потапович, В. М. Андреев

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Выполнены исследования инфракрасных светодиодов с длиной волны излучения 850 нм на основе гетероструктур AlGaAs/GaAs, выращенных методом МОС-гидридной эпитаксии, с брэгговским отражателем и дополнительным “отражающим” слоем Al$_{0.9}$Ga$_{0.1}$As, обеспечивающими снижение внутренних оптических потерь генерируемого излучения. Разработана постростовая технология формирования фронтальных полосковых омических контактов и текстурирования световыводящей поверхности, позволившая снизить омические потери и увеличить эффективность вывода излучения из кристалла. Внешний квантовый выход светодиодов с двумя внутренними отражателями и текстурированием составил $>$ 9% в диапазоне токов 0.1–1.4 А.

Ключевые слова: инфракрасный излучающий диод, брэгговский отражатель, текстурирование.

Поступила в редакцию: 09.03.2021
Исправленный вариант: 15.03.2021
Принята в печать: 15.03.2021

DOI: 10.21883/FTP.2021.07.51028.9646


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2021, 55:8, 686–690

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024