RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2021, том 55, выпуск 5, страницы 450–454 (Mi phts5040)

Аморфные, стеклообразные, органические полупроводники

Перенос заряда в тонких слоях стеклообразной гибридной системы Ge$_{28.5}$Pb$_{14.5}$Fe$_{0.5}$S$_{56.5}$

А. Р. Кастро-Аратаa, Г. И. Грабкоab, А. А. Кононовa, Н. И. Анисимоваa, М. Крбалc, А. В. Колобовad

a Российский государственный педагогический университет им. А. И. Герцена, г. Санкт-Петербург
b Забайкальский государственный университет, г. Чита
c Университет Пардубице, 530 02 Пардубице, Чехия
d Национальный институт передовых промышленных наук и технологий, 305-8565 Цукуба, Япония

Аннотация: Представлены результаты исследования процессов переноса заряда в тонких слоях халькогенидной гибридной системы Ge$_{28.5}$Pb$_{14.5}$Fe$_{0.5}$S$_{56.5}$. Обнаружены степенная зависимость удельной проводимости от частоты и уменьшение значения показателя степени s с увеличением температуры. Перенос заряда является термически активированным процессом с энергией активации $E_{a}$=(0.64 $\pm$ 0.02) эВ. Полученные результаты объясняются в рамках модели проводимости в неупорядоченных системах СВН (correlated barrier hopping). Рассчитанная доля неподеленных электронных пар указывает на то, что при введении железа материал остается в стеклообразующей области.

Ключевые слова: прыжковый механизм переноса, тонкие слои, стеклообразная гибридная система, неподеленные электронные пары.

Поступила в редакцию: 18.01.2021
Исправленный вариант: 25.01.2021
Принята в печать: 25.01.2021

DOI: 10.21883/FTP.2021.05.50836.9578



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024