RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 9, страницы 952–957 (Mi phts5177)

Эта публикация цитируется в 7 статьях

XXIV Международный симпозиум Нанофизика и наноэлектроника, Нижний Новгород, 10-13 марта 2020 г.

Фотодинамика люминесценции гибридных наноструктур InP/InAsP/InP ННК, пассивированных слоем ТОРО-CdSe/ZnS КТ

А. И. Хребтовa, А. С. Кулагинаa, В. В. Даниловb, Е. С. Громоваb, И. Д. Скурловc, А. П. Литвинc, Р. Р. Резникc, И. В. Штромad, Г. Э. Цырлинacd

a Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет имени Ж. И. Алфёрова Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Петербургский государственный университет путей сообщения Императора Александра I
c Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
d Институт аналитического приборостроения РАН, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Приведены результаты исследований фотодинамики распада возбужденных состояний гибридной полупроводниковой наноструктуры, представляющей собой массив нитевидных нанокристаллов InP с нановставкой InAsP, пассивированных квазиленгмюровским слоем ТОРО (триоктилфосфиноксид), содержащим коллоидные квантовые точки CdSe/ZnS. Получены спектрокинетические зависимости люминесценции наноразмерных включений InAsP в ближней инфракрасной области при температурах 80 и 293 K. Наличие слоя ТОРО-CdSe/ZnS квантовых точек на поверхности нитевидных нанокристаллов InP/InAsP/InP ведет к увеличению длительности излучательной рекомбинации и появлению ее зависимости от температуры. Установлено, что в синтезированной структуре имеется гетеропереход второго рода на границе между нановставкой InAsP и объемом InP. Обсуждается влияние межфазных процессов на увеличение длительности свечения.

Ключевые слова: молекулярно-пучковая эпитаксия, нитевидные нанокристаллы, коллоидные квантовые точки, люминесценция.

Поступила в редакцию: 15.04.2020
Исправленный вариант: 21.04.2020
Принята в печать: 21.04.2020

DOI: 10.21883/FTP.2020.09.49838.32


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2020, 54:9, 1141–1146

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024