RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 6, страницы 552–556 (Mi phts5220)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Углеродные системы

Транспортные процессы с участием атомов углерода между поверхностью и объемом родия при образовании и разрушении графена

Е. В. Рутьков, Е. Ю. Афанасьева, Н. Р. Галль

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Исследованы равновесные транспортные процессы с участием атомов углерода между поверхностью родиевого образца и его объемом, определяющие кинетику фазового перехода, вызывающего образование и разрушение графена. Найдена разность энергий активации растворения атомов углерода $E_{s1}$ и энергии активации выделения $E_{1s}$ из объема на поверхность $\Delta E$ = 0.7 эВ. Определена температурная зависимость критического покрытия $N_{eq}$ = $N_{eq}(T)$ в слое хемосорбированного углерода, при котором происходит двумерный фазовый переход и образуются островки графена: например, при $T$ = 1800 K $N_{eq}$ = 7.7 $ \cdot$ 10$^{14}$ см$^{-2}$, а при $T$ = 1000 K $N_{eq}$ = 3.1 $\cdot$ 10$^{14}$ см$^{-2}$.

Ключевые слова: графен, углерод, фазовый переход, родий.

Поступила в редакцию: 30.01.2020
Исправленный вариант: 10.02.2020
Принята в печать: 10.02.2020

DOI: 10.21883/FTP.2020.06.49384.9360


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2020, 54:6, 662–665

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024