RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 4, страницы 331–340 (Mi phts5239)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Электронные свойства полупроводников

Диэлектрическая спектроскопия и механизм фазового перехода полупроводник-металл в легированных пленках VO$_{2}$:Ge и VO$_{2}$:Mg

А. В. Ильинскийa, А. Р. Кастроb, М. Э. Пашкевичc, Е. Б. Шадринa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Российский государственный педагогический университет им. А. И. Герцена, г. Санкт-Петербург
c Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого

Аннотация: В интервале 0.1 – 10$^{6}$ Гц получены частотные зависимости тангенса угла диэлектрических потерь, $\operatorname{tg}\delta(f)$, а также диаграммы Коулa–Коулa для пленок диоксида ванадия, легированных германием и магнием. Измерения проведены при различных температурах в интервале 173 – 373 K. При комнатной температуре для пленок VO$_{2}$:Ge обнаружено появление на низких частотах дополнительного по отношению к нелегированным пленкам максимума на частотной зависимости$\operatorname{tg}\delta(f)$ и дополнительной полуокружности на диаграмме Коулa–Коулa. Для пленок VO$_{2}$:Mg аналогичные дополнительные особенности диэлектрических спектров возникают на высоких частотах. Показано, что вид диаграмм Коулa-Коулa для всех пленок практически не зависит от температуры в указанном температурном интервале, тогда как частоты $f_{0}$, соответствующие максимумам $\operatorname{tg}\delta(f)$, увеличиваются с ростом температуры. Для интерпретации данных диэлектрической спектроскопии предложена комбинированная эквивалентная электрическая схема образца пленки. Установлены механизмы воздействия примесей Ge и Mg на характеристики комплексного мотт-пайерлсовского фазового перехода полупроводник-металл.

Ключевые слова: диоксид ванадия VO$_{2}$, VO$_{2}$:Ge, VO$_{2}$:Mg, корреляционные эффекты, фазовый переход, диэлектрическая спектроскопия, электронная микроскопия.

Поступила в редакцию: 26.11.2019
Исправленный вариант: 05.12.2019
Принята в печать: 05.12.2019

DOI: 10.21883/FTP.2020.04.49136.9319


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2020, 54:4, 403–411

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024