RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 3, страницы 266–274 (Mi phts5263)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Физика полупроводниковых приборов

Исследование электростатической системы поверхности кристаллов AuNi/GaN диодов Шоттки методом зонда Кельвина атомно-силовой микроскопии

Н. А. Торховabc, В. А. Новиковc

a АО "НИИПП", Томск, Россия
b Томский университет автоматизированных систем управления (ТУСУР)
c Национальный исследовательский Томский государственный университет

Аннотация: Атомно-силовые микроскопические исследования электростатической системы поверхности кристаллов плоских AuNi/$n$$n^{+}$-GaN диодов Шоттки показали, что значение работы выхода электронов с поверхности металлических контактов Шоттки зависит от их линейного размера – диаметра $D$. При $D>$ 120 мкм значение работы выхода центральной области контактов приближается к значению работы выхода сплошной металлической пленки золота $e\varphi_{\mathrm{Au}}\approx$ 5.40 эВ. Уменьшение диаметра приводит к уменьшению работы выхода до 5.34 эВ для $D$ = 120 мкм, 5.21 эВ для $D$ = 40 мкм, 5.18 эВ для $D$ = 10 мкм и 5.14 эВ для $D$ = 5 мкм. Наблюдаемое уменьшение значений работы выхода с уменьшением диаметра связано с увеличивающимся влиянием встроенного электростатического поля периферии $\mathbf{E}_{l}$, которое определяется площадью и периметром контактов Шоттки. Принципиальные отличия термодинамических и электростатических систем омических TiAlNiAu/$n^{+}$-GaN-контактов (в отличие от аналогичных систем AuNi/$n$-GaN-контактов Шоттки) указывают на отсутствие в них барьера Шоттки и преобладающую роль термоэмиссионного механизма переноса подвижных носителей электрических зарядов.

Ключевые слова: нитрид галлия, барьер Шоттки, омический контакт, электростатическое поле периферии, размерный эффект, метод зонда Кельвина АСМ.

Поступила в редакцию: 03.07.2019
Исправленный вариант: 20.09.2019
Принята в печать: 21.10.2019

DOI: 10.21883/FTP.2020.03.49031.9203


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2020, 54:3, 337–344

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024