RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 3, страницы 275–279 (Mi phts5264)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Физика полупроводниковых приборов

Двойная лавинная инжекция в диодных лавинных обострителях

М. С. Иванов, Н. И. Подольская, П. Б. Родин

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Проведено численное моделирование пикосекундных диодных лавинных обострителей в режиме коммутации быстронарастающих высоковольтных импульсов субмикросекундной длительности. Показано, что максимальная длительность коммутируемого импульса ограничена физическими явлениями, связанными с переходом структуры в режим двойной лавинной инжекции, а не с восстановлением блокирующей способности диода вследствие дрейфового рассасывания неравновесной электронно-дырочной плазмы, как это имеет место в низкочастотных силовых диодах. Двойная лавинная инжекция в принципе способна поддерживать структуру диодного обострителя в проводящем состоянии после переключения. Однако отрицательное дифференциальное сопротивление, имеющее место в этом режиме, влечет за собой неустойчивость однородного токораспределения и изотермическое шнурование тока.

Ключевые слова: ударная ионизация, субнаносекундные переключатели, лавинная инжекция, токовые неустойчивости.

Поступила в редакцию: 14.10.2019
Исправленный вариант: 22.10.2019
Принята в печать: 22.10.2019

DOI: 10.21883/FTP.2020.03.49032.9284


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2020, 54:3, 345–349

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024