RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 2, страницы 129–137 (Mi phts5275)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления

Квантовые точки “ядро–оболочка” Ge/Si в матрице оксида алюминия: влияние температуры отжига на оптические свойства

О. М. Среселиa, Н. А. Бертa, В. Н. Неведомскийa, А. И. Лихачевa, И. Н. Яссиевичa, А. В. Ершовb, А. В. Неждановb, А. И. Машинb, Б. А. Андреевc, А. Н. Яблонскийc

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
c Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород

Аннотация: Структуры с наночастицами (квантовыми точками) Ge/Si в матрице оксида алюминия интересны для исследователей благодаря сочетанию двух основных полупроводников, а также использованию матрицы с высокой диэлектрической проницаемостью и сильной связью кислорода с металлом. В работе изготовлены многослойные нанопериодические структуры в последовательности подложка/Al$_{2}$O$_{3}$/Ge/Si/Al$_{2}$O$_{3}$ $\dots$ Al$_{2}$O$_{3}$ (период – Al$_{2}$O$_{3}$/Ge/Si, число периодов – до 20), которые затем отжигались при разных температурах. Показано, что после отжига в структурах наблюдаются кристаллические частицы и Ge, и Si, размеры и количество которых определяются толщиной напыленных слоев и температурой отжига. Полученные различными оптическими методиками результаты свидетельствуют о квантово-размерном эффекте в структурах, что подтверждено микроскопией высокого разрешения.

Ключевые слова: многослойные наноструктуры, квантовые точки ядро–оболочка, Ge/Si.

Поступила в редакцию: 24.09.2019
Исправленный вариант: 30.09.2019
Принята в печать: 30.09.2019

DOI: 10.21883/FTP.2020.02.48892.9264


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2020, 54:2, 181–189

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024