RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2019, том 53, выпуск 11, страницы 1557–1561 (Mi phts5364)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Микро- и нанокристаллические, пористые, композитные полупроводники

Определение концентрации свободных носителей заряда в легированных бором кремниевых нанонитях при помощи инфракрасной спектроскопии в режиме нарушенного полного внутреннего отражения

Е. А. Липковаa, А. И. Ефимоваa, К. А. Гончарa, Д. Е. Пресновab, А. А. Елисеевc, А. Н. Лапшинd, В. Ю. Тимошенкоaef

a Физический факультет, Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
b Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д. В. Скобельцына
c Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, факультет наук о материалах
d ООО "Брукер", Москва, Россия
e Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", г. Москва
f Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва

Аннотация: Методом инфракрасной спектроскопии в режиме нарушенного полного внутреннего отражения определена концентрация свободных носителей заряда в массивах кремниевых нанонитей с характерными поперечными размерами 50–100 нм и длиной $\sim$10 мкм, сформированных на низколегированных подложках кристаллического кремния $p$-типа проводимости методом металл-стимулированного химического травления и подвергнутых дополнительному термодиффузионному легированию бором при температурах 850–1000$^\circ$С. Установлено, что в зависимости от температуры отжига концентрация свободных дырок в массивах варьируется от 5 $\cdot$ 10$^{18}$ до 3 $\cdot$ 10$^{19}$ см$^{-3}$ и максимальна при температурах 900–950$^\circ$C. Полученные результаты могут быть использованы для расширения области применения кремниевых нанонитей в фотонике, сенсорике и термоэлектрических преобразователях энергии.

Ключевые слова: легированные кремниевые нанонити, спектроскопия нарушенного полного отражения, свободные носители заряда, металлстимулированное химическое травление.

Поступила в редакцию: 13.05.2019
Исправленный вариант: 24.05.2019
Принята в печать: 24.05.2019

DOI: 10.21883/FTP.2019.11.48455.9157


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2019, 53:11, 1524–1528

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024